 200A电镀浓缩液为基础基质提供铜。在电镀过程中，沉积的铜由阳极侵

 200A电镀浓缩液为基础基质提供铜。在电镀过程中，沉积的铜由阳极侵蚀补充。带出的复杂药剂由添加200B补充。一般只在新配槽或镀液功能竭尽时才能添加200A。镀液中铜含量，挂镀一般维持在8~10g/L，滚镀维持在6~8g/L。在生产过程中由于镀液的带出损耗和电极过程的损失，可根据化学分析进行补充，每缺少铜lg/L，可补充200A44mL/L。（A400，B100）

Kết quả (Việt) 1:

 200A tập trung lỏng ma trận cung cấp cơ sở cho đồng. Trong quá trình mạ điện, lắng đọng của đồng bằng Anodic khắc thêm. Mang ra phức tạp hoá bằng cách thêm 200B được thêm vào. Nói chung, chỉ có trong các bể hoặc bồn tắm chức năng mới tốt nhất khi được thêm vào 200A. Các nội dung đồng trong tắm rack duy trì thường 8 ~ 10g/L, thùng được duy trì ở 6 ~ 8g/L. Quy trình sản xuất do tắm với một mất mát và sự mất mát của các quá trình điện cực, có thể được thêm vào theo phân tích hóa học, cho thiếu của lg đồng/L, thêm vào 200A44mL/L. (A400, B100)

Kết quả (Việt) 2:

 200A mạ quặng đồng để cung cấp cho các cơ sở của ma trận. Trong quá trình mạ điện, các đồng được gửi bởi một sự xói mòn anode bổ sung. đại lý phức tạp đưa ra bằng cách thêm 200B bổ sung. Thông thường chỉ khi một chức năng mới làm với rãnh hoặc tắm có thể thêm 200A. Các nội dung đồng của bồn tắm, treo mạ thường được duy trì ở mức 8 ~ 10g / L, thùng đã được duy trì ở mức 6 ~ 8g / L. Trong quá trình sản xuất do tắm với những mất mát và sự mất mát của các quá trình điện cực, theo phân tích hóa học để bổ sung sự thiếu đồng mỗi lg / L, có thể được thêm 200A44mL / L. (A400, B100)